Εξειδίκευση τύπου :	Ανακοίνωση σε συνέδριο
Τίτλος:	Single pulse, high resolution X-ray contact microscopy with an advanced epoxy novolac resist
Δημιουργός/Συγγραφέας:	Argitis, P [EL] Κεφαλάς, Αλκιβιάδης Κωνσταντίνος[EN] Cefalas, Alciviadis Constantinos [EL] Κόλλια, Ζωή[EN] Kollia, Zoe [EL] Σαραντοπούλου, Ευαγγελία[EN] Sarantopoulou, Evangelia Ford, T Stead, T Marranca, A Danson, CN Knott, J Neely, D
Επιμελητής έκδοσης:	Carabelas, A DiLazzaro, P Torre, A Baldacchini, G
Εκδότης:	South P I East - International Society for Optical Engineering
Τόπος έκδοσης:	BELLINGHAM
Ημερομηνία:	1998
Γλώσσα:	Αγγλικά
ISBN:	0-8194-2878-7
ISSN:	0277-786X
DOI:	10.1117/12.316626
Περίληψη:	We report on the use of an epoxy novolac chemically amplified photoresist, to get x-ray images of living biological species in the water window of soft X-rays. This photoresist response was at least two orders of magnitude "faster" than the standard used PMMA in contact X-ray microscopy. Atomic Force Microscopy of the resist, relief images obtained with biological specimen masking, suggests a resolution better than 300 nm in lateral dimensions - the size of the cell flagellas - and 20 nm in depth profiles.
Όνομα εκδήλωσης:	2nd Greek-Italian International Conference on New Laser Technologies and Applications
Ημ/νία έναρξης εκδήλωσης :	1997-06-01
Ημ/νία λήξης εκδήλωσης :	1997-06-04
Τόπος εκδήλωσης:	OLYMPIA, GREECE
Τίτλος πηγής δημοσίευσης:	Second Gr-i International Conference on New Laser Technologies and Applications
Τόμος/Κεφάλαιο:	3423
Σελίδες:	411-415
Θεματική Κατηγορία:	[EL] Οπτική. Φώς[EN] Optics. Light
Αξιολόγηση από ομότιμους (peer reviewed):	Ναι
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων:	© SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Εμφανίζεται στις συλλογές:	Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο