Παρακαλώ χρησιμοποιήστε αυτό το αναγνωριστικό για να παραπέμψετε ή να δημιουργήσετε σύνδεσμο προς αυτό το τεκμήριο: https://hdl.handle.net/10442/19309
Export to:   BibTeX  | EndNote  | RIS
Εξειδίκευση τύπου : Άρθρο σε επιστημονικό περιοδικό
Τίτλος: Film‐Based Multi‐Photon Lithography for Efficient Printing of Electromagnetic Surface Structures
Δημιουργός/Συγγραφέας: Zyla, Gordon
Papamakarios, Savvas
Zografopoulos, Dimitrios C.
Christoforidou, Anna
Kenanakis, George
Farsari, Maria
[EL] Τσιλιπάκος Οδυσσέας[EN] Tsilipakos, Odysseassemantics logo
Ημερομηνία: 2025
Γλώσσα: Αγγλικά
ISSN: 2365-709X
2365-709X
DOI: 10.1002/admt.202402137
Περίληψη: This study introduces an approach, termed film-based multi-photon lithography (MPL), for the efficient fabrication of electromagnetic surface structures. Unlike conventional MPL, which utilizes droplet-shaped photosensitive volumes for the fabrication of 3D structures, this method employs photosensitive thin films to minimize the influence of axial voxel dimensions. This modification enables rapid printing of 2D surface structures over large areas with dry objective lenses, achieving feature sizes as small as 250 nm. The versatility of film-based MPL is demonstrated through the fabrication of terahertz metasurfaces featuring metallized split-ring resonators on glass substrates, as well as mid-infrared metasurfaces comprising dielectric pillars on silicon-on-insulator substrates. These structures are successfully produced over areas spanning cm2 and mm2 using a hybrid organic–inorganic photoresist within a maximum processing time of 2 h. Particularly with hybrid organic-inorganic photoresists, additional post-processing via calcination shows significant potential for producing purely inorganic periodic structures with reduced feature sizes. Moreover, film-based MPL enables the fabrication of high-resolution 2.5D surface structures, which are challenging to achieve using conventional lithographic methods. Experimental results are analyzed through profilometry, scanning electron microscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, and energy- dispersive X-ray spectroscopy, while simulations confirmed the electromagnetic responses of the metasurfaces.
Τίτλος πηγής δημοσίευσης: Advanced Materials Technologies
Θεματική Κατηγορία: [EL] Εφαρμοσμένη οπτική. Φωτονική[EN] Applied optics. Photonicssemantics logo
[EL] Νανοτεχνολογία[EN] Nanotechnologysemantics logo
Λέξεις-Κλειδιά: film-based MPL
nanofabrication
metasurfaces
nanofabrication
materials science
electromagnetics
Κάτοχος πνευματικών δικαιωμάτων: © 2025 The Author(s). Advanced Materials Technologies published by Wiley-VCH GmbH
Όροι και προϋποθέσεις δικαιωμάτων: This is an open access article under the terms of the Creative Commons Attribution-NonCommercial License, which permits use, distribution and reproduction in any medium, provided the original work is properly cited and is not used for commercial purposes.
Ηλεκτρονική διεύθυνση στον εκδότη (link): https://doi.org/10.1002/admt.202402137
Εμφανίζεται στις συλλογές:Ινστιτούτο Θεωρητικής και Φυσικής Χημείας (ΙΘΦΧ) - Επιστημονικό έργο

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο:
Αρχείο Περιγραφή ΣελίδεςΜέγεθοςΜορφότυποςΈκδοσηΆδεια
Zyla et al_2024_admt.202402137.pdfopen access article8.77 MBAdobe PDFΔημοσιευμένη/του ΕκδότηccbyncΔείτε/ανοίξτε